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TEL ACT8 Coat \u0026 Develop System Refurbished by Rite Track
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Coater/Developer ACT™ Series – Tokyo Electron
The CLEAN TRACK™ ACT™ 12 SOD/8 SOD are spin-on dielectric systems designed to coat, bake, and cure of low-k dielectric materials. Its innovative process modules …
Source: www.tel.com
Date Published: 6/20/2022
View: 658
Buy Certified Used Semiconductor Equipment | Tokyo Electron
Product, Model, Size (mm), Specification, Quantity, Inquiry. Coater/Developer, CLEAN TRACK ACT™ 12, 300, 2 Block L->R, 1, Ask TEL.
Source: www.telcertifiedused.com
Date Published: 4/3/2022
View: 3412
Tokyo Electron Ltd. (TEL) CLEAN TRACK ACT 12
Equipment details: Date of Manufacture: 2004. Currently Configured for: 300mm. Current Equipment Status: Available. Asset HDD not included.
Source: www.macquarie.com
Date Published: 2/19/2021
View: 3886
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주제에 대한 기사 평가 tokyo electron clean track act 12
- Author: Rite Track Equipment Services
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- Date Published: 2020. 3. 6.
- Video Url link: https://www.youtube.com/watch?v=xLC510xjG-A
Coater/Developer ACT™ Series
The CLEAN TRACK™ ACT™ 12 and ACT™ 8 are 300/200mm coater/developer which enable stable, high-quality processing and smooth transition from R&D to volume production. The in-line model with exposure tool achieved almost the same footprint and moreover provides higher throughput by high-speed transfer system compared to the previous track series. Uptime has been improved by increasing the reliability of each component and simplifying maintenance. In addition, the platform supports DUV processing through the use of a ULPA chemical filter and a high precision oven.
Buy Certified Used Semiconductor Equipment
Product — SELECT A MODEL — Coater/Developer CLEAN TRACK ACT 12 CLEAN TRACK ACT 12 SOD CLEAN TRACK ACT 8 CLEAN TRACK ACT 8 SOD CLEAN TRACK LITHIUS CLEAN TRACK LITHIUS I Etch Systems Telius UNITY UNITY Me Surface Preparation Systems EXPEDIUS ZETA Thermal Processing ALPHA-303i ALPHA-8S ALPHA-8SE TELFORMULA TELINDY TELINDY PLUS Test Systems P-12XL Series P-8 Series Precio Series WDF Series Block All 1 Block 2 Block 3 Block Direction All L->R R->L Chamber Type All ATC PE DRM IEM SCCM Other Number of Chambers All 1 2 3 4 Diffusion / CVD All Diffusion CVD Chamber Type All Ti/TiN W/WSi SPA Wafer Size All 200 300 Wafer Size All 200 300
Resist Processing Equipment
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